温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了基于非晶合金压印的微纳耦合表面减阻结构及其制备方法，属于金属塑性成形领域，该方法包括对模板基片进行预处理；在预处理后的模板基片上加工出微米级的沟槽阵列；将具有沟槽阵列的模板基片在酸性电解液中进行阳极氧化，以在沟槽阵列上制备出纳米...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。