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本申请提供了一种可自清洗的基站及清洁系统，基站包括水槽，以及用于清洗清洁机器人的拖擦件的清洗结构，所述清洗结构设置于所述水槽内或位于所述水槽上方，所述基站还包括：喷水结构，用于向所述水槽底壁喷洒自边缘向中心区域方向的冲刷水流；排水结构，用于...
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