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本发明公开了一种对位机台，以供对位两料件，其包括：一吸附头，以供吸附一第一料件；一光源，设于该吸附头上方，用以投射光线于该第一料件；一支撑平台，位于该吸附头与该第一料件下方，用以在该第一料件与一第二料件对位压合时支撑该第二料件；以及一影像撷...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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