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本公开涉及用于测量测量介质中的多个分析物浓度的设备和方法。一种用于测量测量介质中的第一分析物浓度和第二分析物浓度的设备包括：样品室；第一光源单元；第一检测器单元；功能元件；第二光源单元；第二检测器单元；以及控制单元，其适于分析检测到的第一光...
该专利属于恩德莱斯和豪瑟尔光学分析股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过恩德莱斯和豪瑟尔光学分析股份有限公司授权不得商用。

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