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一种刻蚀仿真模型的构建方法，包括：对于多个光刻设计图案，均采用预设的刻蚀参数的N
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该专利属于先进半导体材料（安徽）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过先进半导体材料（安徽）有限公司授权不得商用。

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