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一种混合基质膜及其制备方法和应用技术
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文档序号:37238740
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本发明涉及CO2气体分离技术领域,尤其涉及一种混合基质膜及其制备方法和应用。本发明提供的混合基质膜,包括高分子聚合物和分散在所述高分子聚合物中的镧系氟化物多孔纳米片。本发明所述混合基质膜中的镧系氟化物多孔纳米片为具有多孔结构的二维多孔纳米片...
该专利属于天津鼎芯膜科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过天津鼎芯膜科技有限公司授权不得商用。
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