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本申请提供一种低剂量γ射线透照工装，其包括：外部屏蔽罩，所述外部屏蔽罩的内部设置有贫化铀层，所述外部屏蔽罩设置有曝光孔，所述曝光孔连接有曝光头，所述曝光头设置有凹弧面；导源软管，所述导源软管设置在所述外部屏蔽罩的内部，所述导源软管的开口端用...
该专利属于广州帕理检测技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州帕理检测技术有限公司授权不得商用。

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