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本申请实施例提供一种光学膜及其制备方法，涉及屏幕保护膜领域。本申请实施例的光学膜包括依次层叠设置的10～125μm的基材、3～25μm的底涂层、20～150nm的氧化硅层、5～100nm的AF层；氧化硅层的主要材质为无机氧化硅，AF层由含有...该专利属于宁波惠之星新材料科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过宁波惠之星新材料科技股份有限公司授权不得商用。
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本申请实施例提供一种光学膜及其制备方法，涉及屏幕保护膜领域。本申请实施例的光学膜包括依次层叠设置的10～125μm的基材、3～25μm的底涂层、20～150nm的氧化硅层、5～100nm的AF层；氧化硅层的主要材质为无机氧化硅，AF层由含有...