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本发明公开了一种CVD法制备碳化钽涂层的方法；涉及碳化钽涂层制备领域；该方法具体步骤如下：对基底材料进行预处理；将预处理后的基底材料放置于CVD炉的反应室中，开启真空泵，将炉内压力抽至100Pa以下，停止真空泵，充入氩气，静置，再次开启真空...
该专利属于杭州幄肯新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过杭州幄肯新材料科技有限公司授权不得商用。

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