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一种可调谐的多区喷射系统，用于一个等离子处理系统以便用等离子处理各个基片（１３），比如各个半导体晶片。系统包括一个等离子处理室（１０），一个基片支承（１６）用于支承一个基片在处理室内，一个介电元件（２０）具有一个内表面对着基片支承，介电元件...
该专利属于兰姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过兰姆研究公司授权不得商用。

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