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一种反应腔，适用于等离子体工艺的机器，反应腔具有开口，开口表面设置有遮板，其中，遮板与晶片的表面相对，且遮板的表面为粗糙的表面。遮板粗糙的表面可以增加附着涂布的面积，降低剥落的情形，从而减轻微粒的污染。...
该专利属于力晶半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过力晶半导体股份有限公司授权不得商用。

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