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一种离子束角度可调整的离子注入机，它包括将注入的气体分解为等离子状态的离子源；对所需离子进行分离的磁分析器；对分选出的注入离子加速的加速器；为在晶片整个面上均匀地注入加速的离子的扫描器；位于扫描器与晶片之间的法拉第盒，其与用于测量注入晶片的...
该专利属于现代电子产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过现代电子产业株式会社授权不得商用。

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