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一种双等离子体喷管装置，包括支承于壳体内的两个等离子体喷管组件（１０、２０）。各喷管有第一和第二间隔开的电极。等离子体气体引入在两个电极之间的处理区。屏蔽气体引入成围绕该等离子体。供给管（１１２）用于向处理器供给供料。...
该专利属于特乔尼科斯有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过特乔尼科斯有限公司授权不得商用。

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