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基于全HVPE工艺生长的GaN结势垒肖特基二极管及其制备方法技术
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下载基于全HVPE工艺生长的GaN结势垒肖特基二极管及其制备方法的技术资料
文档序号:37152027
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本发明提供了一种基于全HVPE工艺生长的GaN结势垒肖特基二极管及其制备方法,包括:采用HVPE工艺,以液态金属镓作为Ga源,氨气为N源,SiH4为n型掺杂源,在双抛的GaN单晶自支撑衬底上生长一层n型GaN外延层;对n型GaN外延层进行光...
该专利属于深圳大学所有,仅供学习研究参考,未经过深圳大学授权不得商用。
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