下载半导体器件及其制备方法、存储器及电子设备的技术资料

文档序号:37144233

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本公开涉及一种半导体器件及其制备方法、存储器及电子设备,其中方法包括:提供目标衬底,目标衬底内形成有沿第一方向由初始第一隔离结构间隔排布的多个有源柱,有源柱沿第二方向的相对两侧形成有初始第二隔离结构;初始第二隔离结构包括绝缘柱及包覆绝缘柱的...
该专利属于北京超弦存储器研究院所有,仅供学习研究参考,未经过北京超弦存储器研究院授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。