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掩模的制造方法技术
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文档序号:3714243
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本发明的课题是,提供一种对构成有机EL元件的像素的薄膜图形能以对应于高精细像素的精度成膜的掩模。根据本发明的一种掩模,用于在被成膜面上按照规定图形形成薄膜,具有对应于上述图形的开口部,其特征在于:该掩模由单晶硅构成,上述开口部的尺寸在掩模的...
该专利属于精工爱普生株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过精工爱普生株式会社授权不得商用。
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