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本发明提供一种离子束处理系统，包含：等离子腔室；等离子板，安置在等离子腔室旁边，等离子板界定第一提取孔；射束阻断器，安置在等离子腔室内且面向提取孔；阻断器电极，安置在等离子腔室外部的射束阻断器的表面上；以及提取电极，安置在等离子腔室外部的等...
该专利属于应用材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。

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