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本发明公开了一种三维荧光光谱中散射干扰的评估校正方法，包括：步骤1、获取样本及样本溶剂的三维荧光光谱；步骤2、将样本的三维荧光光谱减去样本溶剂的三维荧光光谱，获得消除拉曼散射和背景干扰后的三维荧光光谱EEM
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该专利属于浙江大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江大学授权不得商用。

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