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本发明涉及气体供给系统、基板处理装置、半导体装置的制造方法及记录介质。提供一种即使是简单的结构也能够适当地控制气体的流量的技术。气体供给系统具有：容器，其生成气体；第一配管，其连接在容器与反应室之间，具有直管部；第一压力测定部，其设置于直管...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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