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一种精确控制晶片基片上的温度分布的结构和方法，其中，用有多个加热区的射频感应线圈把待处理晶片加热到恒定而均匀的温度。各加热区用调谐到特定频率的电容器旁路。调节供给感应线圈的有特定频率的电流供给时间，可单独控制每个区域的温度。由于基座中产生的...该专利属于康塞普特系统设计公司;爱德万斯德能源工业公司所有，仅供学习研究参考，未经过康塞普特系统设计公司;爱德万斯德能源工业公司授权不得商用。