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本发明描述了在半导体的生产和掺杂中所用的高纯度磷化氢气体或其它气体的生成的装置和方法。所述优选装置包括采用微波辐射来生成气体的设备、控制生成速率的设备（１０）、纯化产物气体的设备以及用稀释气体可控混合所述气体至所需输送组合物的设备。通过这些...
该专利属于电子转移技术公司所有，仅供学习研究参考，未经过电子转移技术公司授权不得商用。

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