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目的是在直接成像式曝光装置中，对于基板及台在表面上有凹凸的情况下也能够充分地进行灰尘除去，能够使曝光品质改善。载置有基板(W)的台(6)通过台移动机构(61)而移动，在基板(W)穿过被具备空间光调制器(3)的各曝光头(1)照射曝光图案的光的...
该专利属于株式会社阿迪泰克工程所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社阿迪泰克工程授权不得商用。

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