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本发明提供了一种适用于对半导体、光学、磁性或机电衬底中的至少一种进行抛光的抛光垫。所述抛光垫包含聚脲抛光层和聚脲基质。所述聚脲基质具有软链段，所述软链段是脂肪族无氟聚合物基团和具有至少六个碳的长度的碳氟化合物的共聚物。所述聚脲基质是通过固化...
该专利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司授权不得商用。

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