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一种TN型半透过半反射式偏光片制造技术
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文档序号:36835272
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本实用新型公开了一种TN型半透过半反射式偏光片,涉及偏光片技术领域,包括偏光片基片,所述偏光片基片由PVA膜、离型膜和两个TAV保护膜构成,两个所述TAV保护膜分为位于PVA膜的正上方和和正下方,所述离型膜位于PVA膜的正上方,本实用新型中...
该专利属于广东名格光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过广东名格光电科技有限公司授权不得商用。
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