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本发明涉及聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层及其制备方法和应用。所述聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层包含C、O、Si，以及Ti、Zn、Ce、Fe中的一种或多种元素组成；优选包含Si
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该专利属于中国科学院上海硅酸盐研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海硅酸盐研究所授权不得商用。

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