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本发明公开了一种芯片表面连续镀膜装置及其镀膜方法，涉及芯片镀膜技术领域，为解决现有的镀膜装置在更换不同镀膜材料的坩埚进行镀膜时，需要相应的调控真空度，调节真空度需要一定的时间，镀膜效率有待提高的问题。所述镀膜箱包括若干镀膜腔，所述镀膜箱的内...
该专利属于广东睿华光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东睿华光电科技有限公司授权不得商用。

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