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本公开涉及一种清洁系统及基站，该清洁系统包括清洁设备、基站。清洁设备包括机身以及设置在机身底部的地刷组件；以清洁设备面向用户的一侧记为后侧，远离用户的一侧记为前侧；基站被构造为用于与清洁设备对接；基站包括沿高度方向延伸的基座，以及由基座侧壁...
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