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本发明揭示了一种薄膜沉积装置，包括：处理腔室；气体供应组件，设置于处理腔室顶壁；加热托盘，设置于气体供应组件下方，用于承载并加热基板；射频源；旋转机构，控制基板旋转或者加热托盘旋转或者基板与加热托盘同步旋转，旋转的旋转轴垂直且穿过基板；旋转...该专利属于盛美半导体设备韩国有限公司清芯科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备韩国有限公司清芯科技有限公司授权不得商用。