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真空电弧离子镀膜设备镍铬镍硅测温装置制造方法及图纸
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文档序号:36706552
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本实用新型属于一种真空电弧离子镀膜设备镍铬镍硅测温装置,包括转架(5),其特征在于支撑杆(4)固定在转架(5)上,镍铬镍硅下触点(9)固定在炉体(8)上,镍硌镍硅下触点(9)与温控表(10)连接,镍铬镍硅测温探头(1)套在探头固定管(3)内...
该专利属于大连金泰正新科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过大连金泰正新科技有限公司授权不得商用。
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