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本发明属于电子铜箔制造技术领域，具体公开一种电解铜箔制备中降低阳极析氧电位的方法。电解铜箔制造工艺中，普遍采用的阳极是钛的氧化铱和氧化钽涂层(IrO2‑
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该专利属于四川铭丰电子材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川铭丰电子材料科技有限公司授权不得商用。

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