温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种含有下述成分(A)～(C)的化妆品组合物，(A)有机硅覆膜形成剂，(B)高分子量有机聚硅氧烷，(C)具有聚环氧烷部位和阳离子性基团的除成分(A)和成分(B)以外的有机聚硅氧烷。的除成分(A)和成分(B)以外的有机聚硅氧烷。
...
该专利属于花王株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过花王株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。