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一种高折射率斜齿光栅的制造方法技术
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文档序号:36355365
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本发明提供一种高折射率斜齿光栅的制造方法,包括:S1,在光栅衬底上形成种子层图案,种子层图案图案为若干周期性间隔设置的线条;S2,在种子层图案上利用掠射角沉积技术沉积一层斜齿光栅结构材料。本发明将掠射角沉积技术(GLAD)用于高折射率斜齿光...
该专利属于杭州探真纳米科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州探真纳米科技有限公司授权不得商用。
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