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本发明公开了一种基于表面等离激元的响应性图案、制备方法及其应用。所述制备方法包括下列步骤：将聚合物接枝无机纳米粒子的分散液经过自组装后得到聚合物接枝无机纳米粒子单层膜，将该单层膜转移至基板表面；对该单层膜进行图案化刻蚀，被刻蚀区域的单层膜上...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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