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公开了一种用于沉积氮化硅膜的化学气相沉积炉。该炉包括沿基本竖直方向伸长的处理室和用于在处理室中支撑多个晶片的晶片舟。处理气体注射器设置在处理室内，其基本在晶片舟高度上沿基本竖直方向延伸，并且包括连接到硅前体源和氮前体源的进给端和多个竖直间隔...
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