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本实用新型涉及等离子体技术领域，具体涉及一种单点等离子源、大面积等离子源以及等离子激发装置，所述单点等离子源在密闭空间内所产生的等离子体密度水平更高，所述大面积等离子源可根据被处理物的几何形状进行调节和设计，使得等离子激发装置所产生的等离子...
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