温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本公开涉及通过极紫外(EUV)光刻在抗蚀剂膜中产生的图案的图案高度的确定。该确定是通过使用电子束(e
...
该专利属于鲁汶天主教大学所有，仅供学习研究参考，未经过鲁汶天主教大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。