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本发明公开了一种CMP抛光液过滤器，属于过滤器技术领域，以解决现有的圆柱形深层滤芯在使用一定的时间后内部的过滤网孔会被堵塞，从而影响过滤的效率的问题，包括底座，所述底座的表面中间位置处安装有隔板，所述隔板前侧的中间位置处安装有过滤箱，所述过...
该专利属于成都泰美克晶体技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都泰美克晶体技术有限公司授权不得商用。

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