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本发明公开了一种回归反射服装面料的制备工艺，包括其制备工艺如下：基布处理；抗菌处理；涂粘合剂；涂反射层；涂微珠层；后处理；涂透明树脂；精处理；储存，本发明通过将10%烷基酚聚乙烯醚、10%氯化石蜡为助剂、80%氯代二苯醚类抗菌物质均匀混合制...
该专利属于江苏意瑞达纺织科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏意瑞达纺织科技有限公司授权不得商用。

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