下载沉积材料的方法及半导体器件的技术资料

文档序号:35770927

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本公开涉及过渡金属硫族化物阻挡层的沉积。沉积过渡金属硫族化物阻挡层的方法包括:提供具有通向反应室的开口的衬底,在反应室中以气相提供过渡金属前体,以及在反应室中提供反应性硫族物质。该方法可以是等离子体增强原子层沉积方法。本公开还涉及包括过渡金...
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