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本实用新型公开了一种滤光片清洗技术领域的等离子超声波二流体清洗一体机，旨在解决现有技术中人力成本大，清洗过程不够自动化等问题，其包括：等离子清洗机、超声波清洗机和二流体清洗机，其均设于隧道上方，所述隧道内穿设有第一电动导轨，所述第一电动导轨...
该专利属于苏州五方光电材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州五方光电材料有限公司授权不得商用。

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