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本发明提供了一种基于多重镜像法的大均匀区双平面线圈设计方法，涉及磁屏蔽补偿技术领域，本方法包括步骤S1：通过高磁导率材料的无限大的表面反射磁源和磁性材料，将磁屏蔽箱的屏蔽层看作无限大的平面，产生镜像电流，镜像电流被其他屏蔽层反复镜像；S2：...
该专利属于北京航空航天大学宁波创新研究院所有，仅供学习研究参考，未经过北京航空航天大学宁波创新研究院授权不得商用。

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