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本申请适用于半导体器件制造技术领域,提供了一种高频肖特基二极管及其制备方法,该制备方法包括:在重掺杂半导体层上制备轻掺杂半导体层;在轻掺杂半导体层上制备导电层,导电层的宽度小于轻掺杂半导体层的宽度;在轻掺杂半导体层和导电层上表面制备预设形状...该专利属于中国电子科技集团公司第十三研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国电子科技集团公司第十三研究所授权不得商用。
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本申请适用于半导体器件制造技术领域,提供了一种高频肖特基二极管及其制备方法,该制备方法包括:在重掺杂半导体层上制备轻掺杂半导体层;在轻掺杂半导体层上制备导电层,导电层的宽度小于轻掺杂半导体层的宽度;在轻掺杂半导体层和导电层上表面制备预设形状...