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公开了一种测量设备和测量方法。根据实施例,测量设备可以包括:第一光学测量系统,被配置为向测量对象的目标区域照射第一光,并探测测量对象的目标区域响应于第一光而产生的第一信号;第二光学测量系统,作为拉曼散射测量系统,被配置为向测量对象的目标区域...该专利属于深圳市埃芯半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市埃芯半导体科技有限公司授权不得商用。
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公开了一种测量设备和测量方法。根据实施例,测量设备可以包括:第一光学测量系统,被配置为向测量对象的目标区域照射第一光,并探测测量对象的目标区域响应于第一光而产生的第一信号;第二光学测量系统,作为拉曼散射测量系统,被配置为向测量对象的目标区域...