下载具有增强的缺陷减少的抛光组合物和抛光衬底的方法的技术资料

文档序号:35366949

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种含水碱性化学机械抛光组合物,其包含具有苯基的季铵化合物,该季铵化合物使能够实现氧化硅衬底上的增强的缺陷减少,并使能够在化学机械抛光期间实现良好的氧化硅去除速率。化学机械抛光期间实现良好的氧化硅去除速率。
...
该专利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。