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一种用于分析基板处的样本的系统包括：光源，用于生成第一光；以及空间光调制器，用于从第一光形成第二光，其中，基板包括至少一个传感器，至少一个传感器用于检测基于第二光所发射的发射物，其中，在基板处，第二光形成基于至少一个传感器选择的形状，其中，...
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