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沉积反应器(800)中使用的基座(200)提供热量输入并控制错误沉积的累积。基座加热反应器内的基板带(120)，基板带上沉积有一层或多层薄膜，特别是在金属有机化学气相淀积MOCVD反应器中产生的高温超导HTS薄膜。反应器中产生的高温超导HT...
该专利属于梅托克斯技术公司所有，仅供学习研究参考，未经过梅托克斯技术公司授权不得商用。

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