温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种双面光刻的光刻系统及方法,所述光刻系统包括第一载台、第二载台、光刻机构和控制器,基底正面向上放置于所述第一载台,基底背面向上放置于所述第二载台,光刻机构对基底进行光刻操作,所述控制器控制所述第一载台、所述第二载台和所述光刻机构,所述第一...该专利属于源能智创(江苏)半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过源能智创(江苏)半导体有限公司授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种双面光刻的光刻系统及方法,所述光刻系统包括第一载台、第二载台、光刻机构和控制器,基底正面向上放置于所述第一载台,基底背面向上放置于所述第二载台,光刻机构对基底进行光刻操作,所述控制器控制所述第一载台、所述第二载台和所述光刻机构,所述第一...