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本实用新型涉及高分子中间体生产设备技术领域，具体涉及一种反应釜的底部温度检测装置，用于解决无法检测反应釜底部温度或底部温度显示异常的问题。本实用新型，包括采集器和监测器，所述采集器包括中空的采集器外壳以及设置于采集器外壳内部的采集发送装置、...
该专利属于成都彭州立源高分子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都彭州立源高分子材料有限公司授权不得商用。

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