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一种用于将高电荷态离子注入到工件中同时减轻痕量金属污染的方法包括从离子源中的所需物质产生处于第一电荷状态的所需离子，以及在第一离子束中产生污染物质的痕量金属离子。所需离子和痕量金属离子的荷质比相等。从离子源中提取所需离子和痕量金属离子。从所...
该专利属于艾克塞利斯科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克塞利斯科技公司授权不得商用。

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