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本发明提供一种曝光光线频率增强装置、光掩模及其制备方法，装置包括透光基板及表面等离子激元层，表面等离子激元层包括多个纳米单元结构，多个所述纳米单元结构分别在所述表面等离子激元层平面的第一方向和第二方向上设置为可与所述曝光光线的波长匹配而产生...
该专利属于上海传芯半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海传芯半导体有限公司授权不得商用。

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